关于光刻胶的基本详情介绍(光刻胶基础知识)

导读大家好,小乐今天来为大家解答关于光刻胶的基本详情介绍以下问题,光刻胶基础知识很多人还不知道,现在让我们一起来看看吧!1、光刻胶是一种光敏材料,在半导体制造过程中,通过曝光、显影等步骤,形成特定的图案。2、光刻胶作为集成电路制造中光刻环节的核...

大家好,小乐今天来为大家解答关于光刻胶的基本详情介绍以下问题,光刻胶基础知识很多人还不知道,现在让我们一起来看看吧!

关于光刻胶的基本详情介绍(光刻胶基础知识)

1、光刻胶是一种光敏材料,在半导体制造过程中,通过曝光、显影等步骤,形成特定的图案。

2、光刻胶作为集成电路制造中光刻环节的核心材料,主要作用是在硅片上形成微细图形,实现电路的精密制造。

3、 基本定义:光刻胶是一种通过曝光和显影工艺在硅片或基板上形成图案的材料。

4、从本土光刻胶的整体产业结构看,相对低端的PCB光刻胶仍然占国内94%左右的供应,而高端的面板光刻胶与半导体光刻胶非常之少。

5、增感剂 是光刻胶的关键成分,对光刻胶的感光度、分辨率起着决定性作用。

本文到此讲解完毕了,希望对大家有帮助。

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